Target sputtering Tantalumadalah bahan yang digunakan dalam pembuatan film tipis, biasanya digunakan dalam pembuatan komponen elektronik, peralatan elektronik, dan media perekam magnetik, dalam pembuatan perangkat semikonduktor, film logam, bahan magnetik, pelapis optik, dan bidang lainnya. Biasanya terbuat dari bahan logam Tantalum dengan kemurnian tinggi, dan permukaannya dapat diolah secara kimia atau dipoles secara mekanis untuk mendapatkan kerataan dan penyelesaian yang cukup untuk memastikan keseragaman dan kualitas lapisan. Target Tantalum memiliki karakteristik ketahanan korosi, stabilitas suhu tinggi, dan ketahanan oksidasi yang baik, yang dapat memenuhi persyaratan proses persiapan presisi tinggi yang ketat.

Ia memiliki sifat fisik yang sangat baik seperti titik leleh tinggi, stabilitas termal tinggi, kepadatan tinggi, koefisien ekspansi rendah, dan resistivitas rendah. Ia juga memiliki ketahanan korosi yang tinggi dan dapat menahan erosi media korosif yang kuat seperti asam tungstat, hidrogen fluorida, dan asam fluorida.

Target Tantalum umumnya dibuat melalui proses termal, proses dingin, dan proses metalurgi serbuk. Pemrosesan termal meliputi penempaan, ekstrusi, penggulungan, dll. Pengerjaan dingin meliputi penggilingan, pengeboran, pembubutan, dll. Proses metalurgi serbuk meliputi sintering, pengepresan isostatik panas, penyemprotan plasma, dll.

1. Sifat Kimia

Tantalum tergagap target adalah target yang terbuat dari logam tantalum, dan sifat kimianya terutama diwujudkan dalam aspek berikut:

1) Ketahanan korosi: Bahan Tantalum memiliki ketahanan korosi yang baik, dapat menahan erosi banyak asam kuat dan basa, dan juga dapat menahan gas korosif seperti oksidasi, sulfidasi, dan klorinasi.

2) Titik leleh tinggi: Tantalum memiliki titik leleh tinggi yaitu 3017 derajat, sehingga memiliki ketahanan terhadap suhu tinggi.

3) Stabilitas: Bahan Tantalum memiliki stabilitas kimia yang tinggi dan dapat mempertahankan sifat kimia bawaannya agar tidak diubah oleh lingkungan.

4) Konduktivitas: Tantalum adalah bahan konduktif yang sangat baik dengan konduktivitas listrik dan sifat listrik yang baik, dan banyak digunakan dalam industri elektronik dan semikonduktor.

Ringkasnya, target tantalum memiliki sifat kimia seperti ketahanan korosi, titik leleh tinggi, stabilitas, dan konduktivitas.

2. Spesifikasi

Ukuran	Ketebalan (mm)	Lebar (mm)	Panjang (mm)
Menggagalkan	0.03-0.07	30-200	>50
Lembaran	0.07-0.5	30- 700	30-2000
Papan	0.5-10	50-1000	50-3000

3. Sifat fisik

Target Tantalum merupakan bahan yang digunakan untuk penguapan fisik, berikut beberapa sifat fisik utamanya:

Massa jenis: Massa jenisnya adalah 16,65 g/cm3 (pada suhu kamar).
Titik lebur: Titik lelehnya adalah 2996 derajat Celcius.
Ketahanan korosi: Ia memiliki ketahanan korosi yang sangat baik dan dapat beroperasi secara stabil dalam gas inert dan sebagian besar asam organik dan basa.
Konduktivitas: Ini adalah konduktor elektronik yang sangat baik, dan konduktivitasnya dapat mencapai 15,3 MS/m.
Magnetik: Ini adalah bahan non-magnetik.
Koefisien muai panas: Koefisien muai panasnya adalah 6,3 × 10^-6 K^-1.

Perlu dicatat bahwa kinerja fisik target tantalum akan dipengaruhi oleh produsen yang berbeda, jadi saat memilih dan menggunakannya, Anda harus menanyakan tentang parameter kinerja fisik spesifiknya.

4. Proses Pengolahan

Proses produksi target tantalum adalah sebagai berikut:

1) Pilih dan siapkan bahan dasar: Pilih bahan logam tantalum berkualitas tinggi dan potong atau tuang sesuai bentuk yang diinginkan.

2) Perawatan permukaan: Perawatan permukaan sputtering tantalum target, termasuk pemolesan mekanis, pemolesan elektrolitik, dll., untuk memastikan permukaan halus dan bersih, dan memenuhi persyaratan permukaan target persiapan.

3) Pelapisan: Tempatkan target dalam ruang vakum dan gunakan teknik seperti deposisi uap fisik (PVD) atau deposisi uap kimia (CVD) untuk pelapisan.

4) Pemotongan dan pembersihan: potong target yang dilapisi ke dalam ukuran yang diperlukan, dan lakukan pembersihan dan pemeriksaan kualitas.

5) Pengepakan dan pengiriman: pengepakan dan pengiriman target yang telah disiapkan.

Di atas adalah proses persiapan umum, dan metode serta proses persiapan khusus dapat bervariasi karena ukuran, ketebalan, dan bidang aplikasi dari target yang berbeda.

Prinsip kerja: Ditempatkan di ruang vakum selama proses persiapan film, dan melalui deposisi uap fisik, sputtering magnetron, deposisi uap fisik berkas elektron, dll., bahan baku logam seperti tantalum diubah menjadi kristalinitas yang seragam, padat, dan sangat baik film.

5. Bidang Aplikasi

Tantalum tergagap target terutama digunakan dalam pembuatan komponen elektronik seperti kapasitor dan transistor. Selain itu, target tantalum juga digunakan dalam pembuatan bahan optoelektronik, perawatan permukaan, pelapis anti korosi, dan bidang lainnya. Stabilitas kimianya yang tinggi dan ketahanan terhadap korosi, serta kekuatan dan stabilitas termal yang baik, menjadikan tantalum sebagai salah satu bahan pilihan untuk banyak aplikasi penting, seperti dirgantara, militer, medis, dan energi.